专利名称 一种四光束激光干涉微纳加工装置
申请号/专利号 CN202020388560.X 专利权人(第一权利人) 长春理工大学
申请日 2020-03-24 授权日 2020-10-16
专利类别 实用新型 战略新兴产业分类 高端装备制造
技术主题 Nano machining|纳米结构|晶体|氙气灯|光源|偏振|材料科学|光栅|光强度|激光器|透射光|光束激光|激光|分辨率|光束|高分辨率
应用领域 照相制版工艺曝光装置|微光刻曝光设备
意向价格 具体面议
专利概述 本申请属于多光束激光干涉微纳加工技术领域,特别是涉及一种相位差锁定的四光束激光干涉微纳加工装置和方法。针对现有的多光束激光干涉系统存在着分光器件多、调整光路复杂,光强不一致、系统可靠性低等问题。本申请提供了一种以相位差锁定的四路输出激光器为光源的四光束激光干涉微纳加工装置,包括依次排列的脉冲激励氙灯、Nd:YAG晶体、输出镜、1/4波片、调Q模块、达曼透射光栅腔镜和反射镜。所述激光器无需经过分光系统,可直接获得单纵膜、相位差锁定、光强相等、偏振态一致的四束光用以直接进行反射相交干涉,其装置操作简单,干涉角度易调整,成本低,可用于大面积、高效率、高分辨率的周期性微纳结构的加工。
图片资料 一种四光束激光干涉微纳加工装置
合作方式 拟转让
联系人 戚梅宇 联系电话 13074363281