这套系统,在计算机的控制下可直接在光或热阻薄膜材料上形成数十纳米级任意形状的纳米构造,可获得导体,半导体和绝缘体的相应构造,可在制造纳米电极和纳米电路、生物医疗纳米器件、超大规模电路的纳米特征尺度掩膜等领域获得广泛应用。纳米无掩模光刻技术迎合了微纳器件制造的发展趋势,能克服目前的光刻技术由于掩模成本不断增加所带来的困难。
这套系统,在计算机的控制下可直接在光或热阻薄膜材料上形成数十纳米级任意形状的纳米构造,可获得导体,半导体和绝缘体的相应构造,可在制造纳米电极和纳米电路、生物医疗纳米器件、超大规模电路的纳米特征尺度掩膜等领域获得广泛应用。纳米无掩模光刻技术迎合了微纳器件制造的发展趋势,能克服目前的光刻技术由于掩模成本不断增加所带来的困难。