技术特点(包含主要技术指标）：
本技术主要利用微波化学气相沉积法在不同的衬底上生长各种不同类型的金刚石薄膜，可应用于金刚石高频高能微电子机械系统、功能防护涂层和透明电极、金刚石基生物传感器，IR、紫外以及X光的窗口，场发射器件，远紫外激光器的制备等等。在硬质合金上生长的金刚石膜与基体之间有良好的结合力，可应用于轻金属和碳材料的机械加工。此外，本技术工艺简单，成本低廉，适合于工业推广和应用。技术指标包括：生长面积：≤3英寸；沉积速率：<10mm/h；厚度：3～50微米； 硬度：50-100GPa。
